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2012-09-29 15:49 建設工程教育網(wǎng)整理 【大 中 小】【打印】【我要糾錯】
一、工程概況
該工程為××駐華大使館，位于北京市朝陽(yáng)區××××，基底埋深為5m，局部電梯井6m.
二、工程及水文地質(zhì)條件
�。ㄒ唬┕こ痰刭|(zhì)條件擬建場(chǎng)地位于北京市朝陽(yáng)區××內，地形平坦。根據鉆探結果，擬建場(chǎng)地在15m 勘探深度內的地質(zhì)構成為：地表為人工填土，以下為第四紀沖擊層，自上而下分述如下：
1.雜填土：本層厚度0.50～2.70m，層底標高34.84～37.57m.
2.素填土：本層厚度0.40～1.80m，層底標高33.94～36.83m.
3.質(zhì)黏土：本層厚度9.60～10.80m，層底標高26.12～27.53m.（二）工程水文地質(zhì)情況1999 年12 月上旬勘探時(shí)，遇到兩層地下水，第一層為上層滯水，靜止水位埋深0.80～3.20m（相應于標高34.90～36.06m）；第二層為潛水，靜止水位埋深14.00m（相應于標高24.22m）。近年最高地下水位標高為36.00m 左右（上層滯水）。
……
詳情請下載附件：北京某大使館基坑工程施工方案
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